日清製粉グループのプラント・機器メーカーである日清エンジニアリング株式会社（社長：山田 幸良）は、本年2月16日から18日までの3日間、東京ビッグサイト（東京・有明）にて開催される「nano tech 2011 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」に出展致します。

今回、当社ブースでは、長年の研究の末に確立した熱プラズマ法によるナノ粒子製造プロセスを紹介し、その技術を応用し生成に成功した酸化物、複合酸化物、金属、窒化物、炭化物および球状化粒子など、さまざまな種類のナノ粒子の電子顕微鏡写真とサンプルを展示します。当社では、ナノ粒子の受託加工をサンプル製造から、事業化レベルまで対応が可能であり、今回の展示ではその技術の一端を紹介致します。

本年で10回目を迎える同展は、日本のみならず海外におけるナノテクノロジーの研究・開発の急激な進歩を背景に国内外650企業・団体が出展し、予定来場者数５万人という世界最大規模の先端技術・製品の展示会です。

記

＜参考＞ 日清エンジニアリングのナノ粒子製造プロセス 高周波磁場内で発生する熱プラズマに供給された原料物質は一瞬のうちに蒸発します。その後、凝縮過程を経てナノ粒子が生成します。 クリーンな気相プロセスのため純度が高く、また、独自のテクノロジーにより分散性の良い、比較的粒子径の揃ったナノ粒子が製造できます。